薄膜工藝過濾解決方案
薄膜沉積技術是一種在基片表面沉積薄膜材料的技術，是微電子、光電子、磁性材料等行業(yè)發(fā)展必不可少的關鍵工藝，薄膜沉積工藝主要分為物理和化學方法兩類，物理和化學方法相互補充，物理方法主要用于沉積金屬導線及金屬化合物薄膜等，而一般的物理方法無法實現(xiàn)絕緣材料的轉(zhuǎn)移，需要化學方法通過不同氣體間的反應來沉積，另外部分化學方法也可以用來沉積金屬薄膜。薄膜沉積需要在真空環(huán)境進行，同時工藝腔室需要通入超純的反應氣體以及惰氣體，除此之外，晶圓片在工藝腔、冷卻腔、傳送腔之間的交互傳送也需要及進行破真空動作，這一系列操作都需要在極為潔凈與穩(wěn)定的環(huán)境中進行。
1）物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）主要是通過物理過程,如蒸發(fā)、濺射等,將原材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài),并在基片表面沉積成膜。
2）化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD）是通過化學反應，將氣相前驅(qū)物轉(zhuǎn)化為固態(tài)薄膜，沉積在基片表面。
CVD成膜原理示意圖：
薄膜工藝過濾產(chǎn)品
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制程工藝 |
邁博瑞推薦濾芯系列* |
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薄膜沉積氣體過濾 |
Mini系列PFA不銹鋼氣體濾芯 |
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Mid系列PFA不銹鋼氣體濾芯 |
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Max系列PFA不銹鋼氣體濾芯 |
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Normal系列PP不銹鋼氣體濾芯 |
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DP系列不銹鋼氣體濾芯 |
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P-type系列PP不銹鋼氣體濾芯 |
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FluorPure-BG系列 高效率氣體過濾疏水PTFE膜濾芯 |
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AfsPure GP系列 制程特殊氣體過濾全氟濾芯 |
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